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本文主要論述了隱形光學(xué)浮雕陶瓷裝飾技術(shù)的研究及其在釉面磚生產(chǎn)上的應(yīng)用。主要研究了釉層的微觀結(jié)構(gòu)、入射光反射光過程以及高溫下熔融性能。結(jié)果表明,特殊花釉的配方組成、印油的性能、膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度、燒成制度對幻影釉面磚隱形浮雕裝飾效果有一定的影響。
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