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更新時間:2025.05.11
相位掩模法紅外飛秒激光刻寫光纖光柵技術(shù)

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摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術(shù)要點,總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術(shù)之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實驗系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時間短的優(yōu)點。

基于紫外光刻的微納光纖布喇格光柵研究

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介紹紫外光刻法制作微納光纖布喇格光柵(MF-BG)的制作工藝,測量并分析不同直徑的微納光纖布喇格光柵的反射譜。數(shù)據(jù)表明隨著微納光纖的直徑變小,光纖光柵的中心波長藍移且反射強度也隨之減小。仿真計算微納光纖的有效折射率和光纖纖芯的束縛能力(即基模分布在纖芯的能量與基模全部能量的比值),來解釋上述變化。

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