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PS在景觀石上刻字 演示效果如下 1、準(zhǔn)備好文字圖片，將文字扣成透明。準(zhǔn)備好景觀石圖片， PS打開。將文字移 動至景觀石文件， Ctrl+T調(diào)整文字大小至合適。 2、使用 Ctrl+ 鼠標(biāo)左鍵，選中文字圖層，將文字圖層隱藏，查看效果圖 3、選中背景圖層，使用 Ctrl+J 快捷鍵，新建一個圖層 2，然后下方選擇【混合 模式】 4、圖層樣式中選擇【斜面與浮雕】，勾選，右側(cè)一次選擇【內(nèi)斜面】【雕刻清 晰】深度調(diào)到合適，方向選擇【下】大小題調(diào)到最大 5、左邊繼續(xù)向下找到【顏色疊加】，選擇顏色為紅色，點擊【確定】然后調(diào)整 不透明度至合適，點擊【確定】 6、最終效果圖
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摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術(shù)要點,總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術(shù)之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實驗系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時間短的優(yōu)點。
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