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更新時間：2025.06.08
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設備名稱：真空有機金屬熱蒸發(fā)—沉積(OLED)鍍膜設備數(shù)量：1臺
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由東北大學張以忱主編的真空工程技術叢書：《真空鍍膜技術》和《真空鍍膜設備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g》主要內(nèi)容：薄膜基礎理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術、真空化學氣相沉積（CVD）、離子注入與離子輔助沉積技術、
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