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為了研究希夫堿光亮劑DL01,DL02,DL03及添加劑Co(BF4)2在電鍍時的電化學行為,采用線性電位掃描測定了氟硼酸鹽光亮鍍錫溶液中加入各種新型添加劑后的極化曲線。結果表明,在含DL01或DL03的氟硼酸鹽鍍液中,Sn2+的還原峰電位分別為-0.230 V和-0.320 V;在含DL01,DL03及少量Co(BF4)2的氟硼酸鍍錫溶液中,Sn-Co共沉積峰電位為-0.210 V;Co(BF4)2促進了Sn2+的沉積,Sn-Co的共析是協同共沉積。
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通過對某染料廠原有染料廢水處理工藝的分析和研究,提出了"混凝處理+生化前調解+生化處理"的改進工藝。采用新型吸附混凝及EDI電驅動等技術處理后的廢水的出水水質達到化工園區(qū)的污水排放標準。
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