三柱靶磁控濺射鍍膜機(jī)在工藝品裝飾鍍中的應(yīng)用
將三柱靶磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)用于工藝品裝飾鍍生產(chǎn)中,開發(fā)多種鍍膜工藝并進(jìn)行了批量生產(chǎn),實(shí)踐證明:三柱靶磁控濺射鍍膜技術(shù)結(jié)合特制的襯底漆和保護(hù)面漆涂裝工藝,能夠在工藝品上獲得合格的裝飾層。拓展該技術(shù)在工藝品行業(yè)的應(yīng)用,可有效減輕傳統(tǒng)電鍍對(duì)環(huán)境的污染。
磁控濺射鍍膜錦綸織物的耐磨性研究
以鈦金屬為靶材、以錦綸織物為基體,通過改變?yōu)R射時(shí)間,濺射功率和濺射氣壓,制備出鈦金屬鍍膜錦綸織物試樣,然后進(jìn)行摩擦試驗(yàn).采用掃描設(shè)備獲得了織物摩擦前后的圖像,利用軟件neoimaging測試織物組織點(diǎn)處的亮度,以相對(duì)亮度的變化反映鍍膜的磨損.研究表明:隨著濺射時(shí)間和濺射功率的增加,鍍膜的耐磨性提高;較為合適的濺射氣壓是0.5~3pa,濺射氣壓過高,耐磨性反而降低.
基于FPGA的太陽能真空集熱管磁控濺射鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
介紹了基于fpga的太陽能真空集熱管磁控濺射鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)的整體設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn)過程。該設(shè)計(jì)以可編程邏輯器件為核心控制部件,它由工序控制流程模塊、參數(shù)設(shè)置及調(diào)用模塊和通訊模塊三個(gè)模塊組成;并基于超高速硬件描述語言在xilinx公司spartanⅱ系列的xc2s2005pq-208芯片上編程實(shí)現(xiàn);結(jié)合先進(jìn)的人機(jī)界面觸摸屏,直觀地監(jiān)控整個(gè)工藝過程,實(shí)現(xiàn)對(duì)太陽能真空集熱管磁控濺射鍍膜機(jī)較理想的控制。
磁控濺射鍍膜玻璃在建筑業(yè)的應(yīng)用
磁控濺射鍍膜玻璃在建筑業(yè)的應(yīng)用北京儀器廠李云松厚度幾納米到幾十微米的特殊形態(tài)的材料,稱之為薄膜。利用各種物理或化學(xué)原理和方法,將一種或幾種特定材料淀積在基底材料表面,獲得所需特性或功能的薄膜,已廣泛應(yīng)用到當(dāng)代科學(xué)技術(shù)和國民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域。一些發(fā)達(dá)國家...
直流磁控濺射鍍膜在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用
磁控濺射屬于一種真空鍍膜技術(shù),在微電子、光學(xué)薄膜、材料表面處理等眾多領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。隨著磁控濺射鍍膜技術(shù)的不斷發(fā)展,其應(yīng)用范圍不斷擴(kuò)大。文章中,主要在探討磁控濺射鍍膜在刀片涂層技術(shù)中應(yīng)用的基礎(chǔ)上,對(duì)磁控濺射真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用機(jī)理、靶的結(jié)構(gòu)、靶的選材與提高鍍膜質(zhì)量的方法進(jìn)行了研究,在文章最后,對(duì)磁控濺射鍍膜刀片的應(yīng)用與發(fā)展前景進(jìn)行了探討。
提高太陽能集熱管磁控濺射鍍膜沉積速率的研究
工業(yè)上用磁控濺射技術(shù)為太陽能集熱管制備al-n/al選擇性吸收涂層,這種吸收涂層最外層為aln介質(zhì)減反層。在開環(huán)n2流量控制模式下,存在濺射制備aln介質(zhì)減反層沉積速率低的缺點(diǎn)。本文依據(jù)氣相化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)理論,薄膜的沉積率正比于反應(yīng)氣體的濃度,提出了一種提高制備aln陶瓷減反層沉積速率的方法。該方法將直流濺射靶電壓反饋至模糊控制器,控制n2流量大小,讓磁控濺射鍍膜機(jī)穩(wěn)定工作在拐點(diǎn)電壓附近,實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射恒電壓控制。并且采用單片機(jī)技術(shù)制作了樣機(jī),在scs-700a型太陽能集熱管鍍膜機(jī)中使用,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,鍍膜沉積速率提高了4倍以上,整個(gè)系統(tǒng)工作穩(wěn)定。
磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)線進(jìn)口備件國產(chǎn)化總結(jié)
本文從作者的實(shí)踐工作經(jīng)驗(yàn)出發(fā),總結(jié)了針對(duì)磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)線進(jìn)口備件國產(chǎn)化的相關(guān)工作。
直流磁控濺射法在管道內(nèi)壁鍍TiZrV薄膜
用氬氣作為放電氣體,采用直流磁控濺射法,成功地在不銹鋼管道內(nèi)壁獲得了tizrv薄膜。分別利用能量彌散x射線譜和x射線光電子能譜測量薄膜的成分組成,應(yīng)用掃描電子顯微鏡和x射線衍射儀對(duì)薄膜進(jìn)行了測試,并對(duì)tizrv的二次電子產(chǎn)額進(jìn)行了測量。測試結(jié)果表明:tizrv的成分基本保持在ti原子分?jǐn)?shù)為30%,zr原子分?jǐn)?shù)為30%,v原子分?jǐn)?shù)為40%左右,位于"低激活溫度區(qū)"內(nèi);薄膜具有無定形的結(jié)構(gòu),由微小的納米晶粒組成;加熱激活后tizrv的二次電子產(chǎn)額有所下降,其峰值由2.03降到1.55,低于不銹鋼和無氧銅。
陰極濺射鍍膜的透明熱反射玻璃板
比利時(shí)最近發(fā)明了一種表面鍍有氧化物和金屬薄膜的透明熱反射玻璃板。該板在可見光譜中具有較高的透光能力,并對(duì)熱輻射有較強(qiáng)的反射作用。
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(一)
近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
等離子清洗技術(shù)在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中的應(yīng)用
在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中,使用等離子清洗技術(shù)可以有效地清潔靶面和陽極表面,徹底解決使用平面磁控濺射陰極進(jìn)行反應(yīng)性濺射時(shí)的“靶中毒”和“陽極消失”兩個(gè)問題。
濺射鍍膜技術(shù)在薄膜材料制備上的研究進(jìn)展
濺射鍍膜技術(shù)采用高能粒子轟擊靶材,濺射出的粒子重新沉積凝聚在固體表面形成薄膜,這種技術(shù)在現(xiàn)代薄膜材料制備過程中得到廣泛應(yīng)用。本文闡述了目前直接利用輝光放電中產(chǎn)生的離子進(jìn)行濺射鍍膜技術(shù)在單原子金屬、半導(dǎo)體材料、絕緣材料、化合物薄膜材料制備工藝的研究進(jìn)展以及展望。
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二)
近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
磁控濺射工藝參數(shù)對(duì)鈦金屬鍍膜滌綸織物耐磨性的研究
為了研究磁控濺射鍍膜工藝參數(shù)對(duì)鍍膜織物耐磨性的影響,以滌綸織物為基材,采用磁控濺射工藝,在不同鍍膜時(shí)間、不同鍍膜壓強(qiáng)、不同鍍膜功率下對(duì)滌綸織物進(jìn)行鍍鈦,然后對(duì)鍍膜織物進(jìn)行摩擦處理,通過顯微鏡觀察,分析鍍膜工藝參數(shù)對(duì)耐磨性的影響。實(shí)驗(yàn)研究表明,鍍膜織物的耐磨性與摩擦次數(shù)的有關(guān),摩擦次數(shù)越多,鍍膜織物耐磨性越強(qiáng)。隨著鍍膜時(shí)間的增加,鍍膜織物的耐磨性越強(qiáng);隨著鍍膜壓強(qiáng)的增加,鍍膜織物的耐磨性在0.8pa時(shí),達(dá)到最大。隨著鍍膜功率的增加,鍍膜織物的耐磨性逐漸增強(qiáng)。
反應(yīng)濺射鍍膜玻璃膜層均勻度的調(diào)整
在反應(yīng)濺射鍍膜玻璃的生產(chǎn)中,常會(huì)出現(xiàn)玻璃的色調(diào)不一致,甚至同一片玻璃上存在著嚴(yán)重的色差。這不僅嚴(yán)重影響鍍膜玻璃的性能,而且也影響它的使用效果。本文就反應(yīng)濺射生產(chǎn)金黃色、寶石藍(lán)色熱反射鍍膜玻璃過程中出現(xiàn)的膜層不均勻、色差以及調(diào)整,提出解決方法。
鋅合金鑄造工藝品電鍍仿石銅色工藝
介紹鋅合金鑄造工藝品電鍍、著色表面處理的方法和溶液組成,如何獲得幽雅古舊的仿古銅色。
SMT工藝品質(zhì)匯總
1、點(diǎn)膠工藝中常見的缺陷與解決方法 1.1、拉絲/拖尾 1.1.1、拉絲/拖尾是點(diǎn)膠中常見的缺陷,產(chǎn)生的原因常見有膠嘴內(nèi)徑太小、點(diǎn)膠壓力太高、 膠嘴離pcb的間距太大、貼片膠過期或品質(zhì)不好、貼片膠粘度太好、從冰箱中取出后未能 恢復(fù)到室溫、點(diǎn)膠量太大等. 1.1.2、解決辦法:改換內(nèi)徑較大的膠嘴;降低點(diǎn)膠壓力;調(diào)節(jié)“止動(dòng)”高度;換膠,選擇合適 粘度的膠種;貼片膠從冰箱中取出后應(yīng)恢復(fù)到室溫(約4h)再投入生產(chǎn);調(diào)整點(diǎn)膠量. 1.2、膠嘴堵塞 1.2.1、故障現(xiàn)象是膠嘴出膠量偏少或沒有膠點(diǎn)出來.產(chǎn)生原因一般是針孔內(nèi)未完全清洗干 凈;貼片膠中混入雜質(zhì),有堵孔現(xiàn)象;不相溶的膠水相混合. 1.2.2解決方法:換清潔的針頭;換質(zhì)量好的貼片膠;貼片膠牌號(hào)不應(yīng)搞錯(cuò). 1.3、空打 1.3.1、現(xiàn)象是只有點(diǎn)膠動(dòng)作,卻無出膠量
真空濺射鍍膜全玻璃真空管集熱管
北京市雙木環(huán)境科學(xué)新技術(shù)開發(fā)公司最新開發(fā)投產(chǎn)了真空管蓄熱式太陽能集熱器專利產(chǎn)品。該太陽能集熱器采用了熱效率高的真空濺射鍍膜全玻璃真空管集熱管,不僅保持了高太陽輻射吸收率、真空絕熱等性能,而且結(jié)合了熱管傳熱技術(shù)和相變蓄熱技術(shù)。它完全克服了現(xiàn)
熱彎磁控真空濺射鍍膜玻璃我國首先研制成功
隨著我國建筑業(yè)的蓬勃發(fā)展,建筑物外墻墻體也日新月異,由磚墻發(fā)展到輕體的幕墻,又由有框鋁合金玻璃幕墻,隱框玻璃幕墻,發(fā)展到鋁板幕墻、陶瓷板、石材、單元式幕墻,國外已發(fā)展到鋁合金隔熱保溫多功能玻璃幕墻。不論什么形式幕墻和各種類型的窗都離不開玻璃,由于鍍膜玻璃具有優(yōu)良的性能和誘人的鏡面裝飾效果,特別引起設(shè)計(jì)師及用戶的青睞。
建筑玻璃的磁控測射鍍膜:JBP25型鍍膜機(jī)介紹
建筑玻璃的磁控測射鍍膜:JBP25型鍍膜機(jī)介紹
直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜
采用直流反應(yīng)磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關(guān)系。用紫外-可見光分光光度計(jì)測試了不同沉積時(shí)間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結(jié)構(gòu);用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對(duì)tin薄膜的耐腐蝕性進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:當(dāng)沉積時(shí)間為2min,n2流量為15ml/min時(shí),在可見光區(qū)有較高的透光率,在近紅外區(qū)的透光率很低;當(dāng)n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜的結(jié)晶最致密;當(dāng)濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。
建筑玻璃的磁控測射鍍膜:JBP25型鍍膜機(jī)介紹
建筑玻璃的磁控測射鍍膜:JBP25型鍍膜機(jī)介紹
塑料基材上磁控濺射鋁膜附著力研究
在光學(xué)塑料表面上運(yùn)用磁控濺射鍍制的單質(zhì)金屬鋁膜,常出現(xiàn)膜層與基片的附著力差的問題。本文結(jié)合光學(xué)塑料的性質(zhì),通過薄膜附著力理論分析,提出在工藝上改進(jìn)鋁膜附著力的方法。通過實(shí)驗(yàn)證明其方法的可行性。
周莉 非洲工藝品平和賣
周莉是江蘇人,兩年前在北京開了一家具有非洲風(fēng)情的工藝品店。她店里的每一件工藝品都是原產(chǎn)干非洲的。非洲歷史悠久,是人類文明的發(fā)祥地之一。在遼闊的非洲大陸,勤勞勇敢的非洲人民創(chuàng)造了光輝燦爛的非洲文化,埃及的金字塔、獅身人面像到現(xiàn)在留給人們的還是些許的神秘?,F(xiàn)代繪畫巨匠畢加索開創(chuàng)"立體主義"畫派的靈感就源于非洲大陸幾何形體的雕塑造型,非洲的這種造型藝術(shù)也以其
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职位:暖通空調(diào)工程師
擅长专业:土建 安裝 裝飾 市政 園林